MEMS, 나노 기술, 반도체 웨이퍼 본딩 및 리소그래피 장비 분야의 공급 업체인 EV 그룹(EVG)은 현재 나노 임프린트 리소그래피 분야에서 EVG의 제품군을 활용하는 다양한 기업을 지원하기 위해 NIL Photonics 역량 센터를 설립했다고 발표했다.

나노 임프린트를 이용한 포토닉스 구조는 발광다이오드(LED)와 광전지(PV) 셀 분야의 광 추출 및 광 포획 성능을 향상시킬 수 있으며, 더불어 레이저 다이오드 분야에도 응용 될 수 있다. 이러한 포토닉스 구조는 소자의 성능을 향상시킬 수도 있다.

NIL Photonics 역량 센터는 전담 공정팀과 초기 양산 서비스를 지원할 수 있는 최첨단 클린룸을 오스트리아의 EVG 본사뿐만 아니라 북미와 일본에 있는 자회사에도 운영하고 있다.

EV 그룹의 마커스 뷤플링거(Markus Wimplinger) 기술 개발 및 IP 이사는 "나노 임프린트 기술은 기존의 리소그래피 설계 및 제조 시간을 대폭 단축 할 수 있고, 포토닉스 구조의 모든 제품 개발이 가능하다. 또 광학 리소그래피용 이빔(e-beam)장치 및 스텝퍼(Stepper) 시스템과 같은 종래의 기술에 비해 생산 비용의 절감을 구현 할 수 있다"고 말했다.

새로운 NIL Photonics 역량 센터는 EVG의 15년 이상의 나노 임프린트 분야의 경험과, 전 세계에 가장 많은 나노 임프린트 장비를 설치한 기술을 바탕으로 설립되었다.

EVG의 나노 임프린트 장비군은 최근에 출시한 EVG7200 UV-NIL 시스템을 포함하며, 이는 양산에 적합한 EVG의 차세대 SmartNIL 기술을 적용한 대면적 연성 나노 임프린트 제품이다.

EVG7200과 SmartNIL 기술은 현존하는 경쟁사 나노 임프린트에 대비해서 월등하게 짧은 공정 시간과 적은 운용 비용을 장점으로 제공한다. 자세한 내용은 해당 페이지(www.evgroup.com/en/about/news/2014_10_EVG7200)에서 확인할 수 있다.

김원영 기자 goora@noteforum.co.kr